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                                                        電鍍鎳漂洗水閉路循環(huán)系統(tǒng)設計及實用設備

⑴電鍍鎳漂洗水閉路循環(huán)系統(tǒng)設計

   電鍍工業(yè)廢水處理閉路循環(huán)技術的理論基礎是實現(xiàn)溶質、溶劑、雜質三個平衡，基本手段是逆流清洗。

   一個電鍍鎳漂洗水閉路循環(huán)系統(tǒng)應滿足以下三個平衡條件。

   水量的平衡  要保持進入系統(tǒng)的清洗水與系統(tǒng)自身消耗水量的平衡。設系統(tǒng)的清洗水量為Q,系統(tǒng)自身消耗水量為W（包括蒸發(fā)、鍍件帶出等水量損失）。理想情況是QW,則應*大限度地減少清洗用水。通過強制手段把水量壓下來，形成強制閉路循環(huán)。保持水量平衡的方法與逆流清洗、噴淋清洗等技術緊密相關。

   ‚溶質平衡   鍍液中能形成優(yōu)良鍍膜或鈍化膜所必須的溶質，其帶出量部分隨清洗水而流失。只有當溶質的回收率達99%以上，才能把溶質封閉在工藝過程中。所以，嚴禁工藝過程中的跑冒漏滴，是實現(xiàn)閉路循環(huán)的先決條件。進入清洗液中的溶質均以稀水溶液狀態(tài)與其他離子混雜在一起，欲保持溶質和量上的平衡，溶質回收方法與分離、濃縮技術緊密相關。

ƒ雜質的平衡  在電鍍工藝過程中產(chǎn)生的反過來又影響電鍍質量的各種離子稱為雜質，如各種重金屬離子以及超標的各種有害離子等。由于閉路循環(huán)操作，鍍槽內雜質含量累積增長到一定程度會影響電鍍質量，因因此必須通過一定手段將部分雜質排出系統(tǒng)之外，使槽內雜質含量在穩(wěn)定在不影響電鍍質量的范圍內。雜質去除方法與物理、化學分離技術緊密相關。

 電鍍清洗閉路循環(huán)系統(tǒng)的設計原理就是通過各種單項治理技術的組合，保持系統(tǒng)內上述三個平衡。

 設計時，首先要對系統(tǒng)的水量平衡問題進行分析，確定是否要在逆流清洗基礎上附加其他技術手段。

滿足水量自然循環(huán)閉路循環(huán)的條件是：Q≤W=GS+q

實施水量強制閉路循環(huán)的條件是：    Q>W=GS+q

式中 Q--清洗水量，L/h    W--鍍液消耗量，L/h     S--鍍槽表面積，M2

         G--鍍液蒸發(fā)量，L/(M2.h),G值見表13-7

     q--鍍液帶出量，L/h，計算方法式見（2-17）

                  表13-7 鍍液蒸發(fā)量參考值

閉路循環(huán)分為強制循環(huán)與自然循環(huán)兩種形式。強制閉路循環(huán)就是在逆流漂洗基礎上配合其他設備與技術手段，實現(xiàn)系統(tǒng)內水量、溶質及雜質的平衡。后者不用設備便可實現(xiàn)閉路循環(huán)。無論是強制循環(huán)還是自然循環(huán)，均做不到雜質平衡。因為在電鍍液中的有效成分是溶質，也包括雜質，二者融合為一體不易分離，它們的帶出和回收也融合在一起。逆流清洗只能做到試劑排出量與回收量平衡，清洗水量與回收水量的平衡，做不到鍍槽與雜質在允許范圍內平衡。所以逆流漂洗的自來閉路循環(huán)要給雜質以出路，形成鍍槽雜質在允許范圍內的平衡，這便產(chǎn)生了不同的新工藝。

⑵電鍍鎳漂洗水閉路循環(huán)系統(tǒng)實用設備

逆流清洗---陽離子交換系統(tǒng)

如圖13-2所示，這是一個以逆流清洗為主的系統(tǒng)。系統(tǒng)水量的平衡通過逆流清洗實現(xiàn)，應滿足上述水量自然閉路循環(huán)條件；溶質的平衡通過逆流清洗實現(xiàn)，系統(tǒng)應防止鍍液的跑冒漏滴；雜質的平衡是通過陽離子交換柱將封閉在系統(tǒng)內累積的陽離子去除，保持鍍液的穩(wěn)定。